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Journal Of X-ray Science And Technology
  • 數(shù)據(jù)庫(kù)收錄SCIE
  • 創(chuàng)刊年份1989年
  • 年發(fā)文量84
  • H-index28

Journal Of X-ray Science And Technology

期刊中文名:X射線科學(xué)與技術(shù)雜志ISSN:0895-3996E-ISSN:1095-9114

該雜志國(guó)際簡(jiǎn)稱:J X-RAY SCI TECHNOL,是由出版商IOS Press出版的一本致力于發(fā)布醫(yī)學(xué)研究新成果的的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊。該雜志以INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION研究為重點(diǎn),主要發(fā)表刊登有創(chuàng)見(jiàn)的學(xué)術(shù)論文文章、行業(yè)最新科研成果,扼要報(bào)道階段性研究成果和重要研究工作的最新進(jìn)展,選載對(duì)學(xué)科發(fā)展起指導(dǎo)作用的綜述與專論,促進(jìn)學(xué)術(shù)發(fā)展,為廣大讀者服務(wù)。該刊是一本國(guó)際優(yōu)秀雜志,在國(guó)際上有很高的學(xué)術(shù)影響力。

基本信息:
期刊簡(jiǎn)稱:J X-RAY SCI TECHNOL
是否OA:未開(kāi)放
是否預(yù)警:
Gold OA文章占比:5.91%
出版信息:
出版地區(qū):NETHERLANDS
出版周期:Quarterly
出版語(yǔ)言:English
出版商:IOS Press
評(píng)價(jià)信息:
中科院分區(qū):3區(qū)
JCR分區(qū):Q3
影響因子:1.7
CiteScore:4.9
雜志介紹 中科院JCR分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 投稿經(jīng)驗(yàn)

雜志介紹

Journal Of X-ray Science And Technology雜志介紹

《Journal Of X-ray Science And Technology》是一本以English為主的未開(kāi)放獲取國(guó)際優(yōu)秀期刊,中文名稱X射線科學(xué)與技術(shù)雜志,本刊主要出版、報(bào)道醫(yī)學(xué)-INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION領(lǐng)域的研究動(dòng)態(tài)以及在該領(lǐng)域取得的各方面的經(jīng)驗(yàn)和科研成果,介紹該領(lǐng)域有關(guān)本專業(yè)的最新進(jìn)展,探討行業(yè)發(fā)展的思路和方法,以促進(jìn)學(xué)術(shù)信息交流,提高行業(yè)發(fā)展。該刊已被國(guó)際權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCIE收錄,為該領(lǐng)域相關(guān)學(xué)科的發(fā)展起到了良好的推動(dòng)作用,也得到了本專業(yè)人員的廣泛認(rèn)可。該刊最新影響因子為1.7,最新CiteScore 指數(shù)為4.9。

本刊近期中國(guó)學(xué)者發(fā)表的論文主要有:

  • Super-resolution image reconstruction from sparsity regularization and deep residual-learned priors

    Author: Zhong, Xinyi; Liang, Ningning; Cai, Ailong; Yu, Xiaohuan; Li, Lei; Yan, Bin

  • Mineral quantitative characterization method based on basis material decomposition model by dual-energy computed tomography

    Author: Zhi, Weijuan; Zou, Jing; Zhao, Jintao; Xia, Xiaoqin

  • An Innovative Low-dose CT Inpainting Algorithm based on Limited-angle Imaging Inpainting Model

    Author: Zhang, Ziheng; Yang, Minghan; Li, Huijuan; Chen, Shuai; Wang, Jianye; Xu, Lei

  • Radiomics nomogram for predicting axillary lymph node metastasis in breast cancer based on DCE-MRI: A multicenter study

    Author: Zhang, Jiwen; Zhang, Zhongsheng; Mao, Ning; Zhang, Haicheng; Gao, Jing; Wang, Bin; Ren, Jianlin; Liu, Xin; Zhang, Binyue; Dou, Tingyao; Li, Wenjuan; Wang, Yanhong; Jia, Hongyan

英文介紹

Journal Of X-ray Science And Technology雜志英文介紹

Research areas within the scope of the journal include:

Interaction of x-rays with matter: x-ray phenomena, biological effects of radiation, radiation safety and optical constants

X-ray sources: x-rays from synchrotrons, x-ray lasers, plasmas, and other sources, conventional or unconventional

Optical elements: grazing incidence optics, multilayer mirrors, zone plates, gratings, other diffraction optics

Optical instruments: interferometers, spectrometers, microscopes, telescopes, microprobes

中科院SCI分區(qū)

Journal Of X-ray Science And Technology雜志中科院分區(qū)信息

2023年12月升級(jí)版
綜述:
TOP期刊:
大類:醫(yī)學(xué) 3區(qū)
小類:

INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
儀器儀表 3區(qū)

OPTICS
光學(xué) 3區(qū)

PHYSICS, APPLIED
物理:應(yīng)用 3區(qū)

2022年12月升級(jí)版
綜述:
TOP期刊:
大類:醫(yī)學(xué) 4區(qū)
小類:

INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
儀器儀表 4區(qū)

OPTICS
光學(xué) 4區(qū)

PHYSICS, APPLIED
物理:應(yīng)用 4區(qū)

2021年12月舊的升級(jí)版
綜述:
TOP期刊:
大類:醫(yī)學(xué) 4區(qū)
小類:

INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
儀器儀表 4區(qū)

OPTICS
光學(xué) 4區(qū)

PHYSICS, APPLIED
物理:應(yīng)用 4區(qū)

2021年12月基礎(chǔ)版
綜述:
TOP期刊:
大類:醫(yī)學(xué) 4區(qū)
小類:

INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
儀器儀表 4區(qū)

OPTICS
光學(xué) 4區(qū)

PHYSICS, APPLIED
物理:應(yīng)用 4區(qū)

2021年12月升級(jí)版
綜述:
TOP期刊:
大類:醫(yī)學(xué) 4區(qū)
小類:

INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
儀器儀表 4區(qū)

OPTICS
光學(xué) 4區(qū)

PHYSICS, APPLIED
物理:應(yīng)用 4區(qū)

2020年12月舊的升級(jí)版
綜述:
TOP期刊:
大類:醫(yī)學(xué) 4區(qū)
小類:

INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
儀器儀表 4區(qū)

OPTICS
光學(xué) 4區(qū)

PHYSICS, APPLIED
物理:應(yīng)用 4區(qū)

中科院SCI分區(qū):是中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心科學(xué)計(jì)量中心的科學(xué)研究成果。期刊分區(qū)表自2004年開(kāi)始發(fā)布,延續(xù)至今;2019年推出升級(jí)版,實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)版、升級(jí)版并存過(guò)渡,2022年只發(fā)布升級(jí)版,期刊分區(qū)表數(shù)據(jù)每年底發(fā)布。 中科院分區(qū)為4個(gè)區(qū)。中科院分區(qū)采用刊物前3年影響因子平均值進(jìn)行分區(qū),即前5%為該類1區(qū),6%~20%為2區(qū)、21%~50%為3區(qū),其余的為4區(qū)。1區(qū)和2區(qū)雜志很少,雜志質(zhì)量相對(duì)也高,基本都是本領(lǐng)域的頂級(jí)期刊。

JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

Journal Of X-ray Science And Technology雜志 JCR分區(qū)信息

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)
學(xué)科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
收錄子集:SCIE
分區(qū):Q3
排名:44 / 76
百分位:

42.8%

學(xué)科:OPTICS
收錄子集:SCIE
分區(qū):Q3
排名:73 / 119
百分位:

39.1%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED
收錄子集:SCIE
分區(qū):Q3
排名:125 / 179
百分位:

30.4%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)
學(xué)科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
收錄子集:SCIE
分區(qū):Q2
排名:35 / 76
百分位:

54.61%

學(xué)科:OPTICS
收錄子集:SCIE
分區(qū):Q2
排名:59 / 120
百分位:

51.25%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED
收錄子集:SCIE
分區(qū):Q2
排名:77 / 179
百分位:

57.26%

JCR分區(qū):JCR分區(qū)來(lái)自科睿唯安公司,JCR是一個(gè)獨(dú)特的多學(xué)科期刊評(píng)價(jià)工具,為唯一提供基于引文數(shù)據(jù)的統(tǒng)計(jì)信息的期刊評(píng)價(jià)資源。每年發(fā)布的JCR分區(qū),設(shè)置了254個(gè)具體學(xué)科。JCR分區(qū)根據(jù)每個(gè)學(xué)科分類按照期刊當(dāng)年的影響因子高低將期刊平均分為4個(gè)區(qū),分別為Q1、Q2、Q3和Q4,各占25%。JCR分區(qū)中期刊的數(shù)量是均勻分為四個(gè)部分的。

CiteScore 評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)(2024年最新版)

Journal Of X-ray Science And Technology雜志CiteScore 評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)

  • CiteScore 值:4.9
  • SJR:0.501
  • SNIP:0.791
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Medicine 小類:Radiology, Nuclear Medicine and Imaging Q2 103 / 333

69%

大類:Medicine 小類:Radiation Q2 19 / 58

68%

大類:Medicine 小類:Instrumentation Q2 46 / 141

67%

大類:Medicine 小類:Condensed Matter Physics Q2 141 / 434

67%

大類:Medicine 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 264 / 797

66%

歷年影響因子和期刊自引率

投稿經(jīng)驗(yàn)

Journal Of X-ray Science And Technology雜志投稿經(jīng)驗(yàn)

該雜志是一本國(guó)際優(yōu)秀雜志,在國(guó)際上有較高的學(xué)術(shù)影響力,行業(yè)關(guān)注度很高,已被國(guó)際權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCIE收錄,該雜志在INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION綜合專業(yè)領(lǐng)域?qū)I(yè)度認(rèn)可很高,對(duì)稿件內(nèi)容的創(chuàng)新性和學(xué)術(shù)性要求很高,作為一本國(guó)際優(yōu)秀雜志,一般投稿過(guò)審時(shí)間都較長(zhǎng),投稿過(guò)審時(shí)間平均 約3.0個(gè)月 ,如果想投稿該刊要做好時(shí)間安排。版面費(fèi)不祥。該雜志近兩年未被列入預(yù)警名單,建議您投稿。如您想了解更多投稿政策及投稿方案,請(qǐng)咨詢客服。

免責(zé)聲明

若用戶需要出版服務(wù),請(qǐng)聯(lián)系出版商:IOS PRESS, NIEUWE HEMWEG 6B, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1013 BG。